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    晶圆EMC开槽设备

    利用激光对晶圆上大颗芯片应力集中的四角位置进行开槽加工,阻断应力延申,解决芯片因应力集中导致塑封开裂的问题。

    • 咨询电话:400 8017 001
    • 电子邮箱:contact@unsortedthings.com

    ■ 设备参数:

    设备能力

    设备能力

    EMC开槽、Edge trim

    激光类型

    UV(Ps)

    加工材料

    EMC、Si、Pi 等

    晶圆尺寸

    12"

    加工能力

    加工后无隐裂crack,无凸起残留,不影响HBM

    晶圆厚度

    ≥200μm

    加工精度

    EMC开槽:tolerance≤±20μm,80≤target≤120μm

    Edge trim:tolerance≤±30μm

    晶圆翘曲

    200-1000μm,≤5mm

    1000-2000μm,≤3mm

    锥度要求

    加工400μm 深度的孔型,上下孔尺寸差≤100μm   (D1-D2≤100μm)

    上料模组

    Bare wafer Load Port*2

    设备附加能力

    Coating功能    二流体清洗

    通讯方式

    SECS/GEM


     

    ■ 功能:

          设备同时具备键合晶圆解键合之前的edge trim工艺。


    ■ 加工效果示例图

           



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