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晶圆EMC开槽设备

利用激光对晶圆上大颗芯片应力集中的四角位置进行开槽加工,阻断应力延申,解决芯片因应力集中导致塑封开裂的问题。

  • 咨询电话:400 8017 001
  • 电子邮箱:contact@unsortedthings.com

■ 设备参数:

设备能力

设备能力

EMC开槽、Edge trim

激光类型

UV(Ps)

加工材料

EMC、Si、Pi 等

晶圆尺寸

12"

加工能力

加工后无隐裂crack,无凸起残留,不影响HBM

晶圆厚度

≥200μm

加工精度

EMC开槽:tolerance≤±20μm,80≤target≤120μm

Edge trim:tolerance≤±30μm

晶圆翘曲

200-1000μm,≤5mm

1000-2000μm,≤3mm

锥度要求

加工400μm 深度的孔型,上下孔尺寸差≤100μm   (D1-D2≤100μm)

上料模组

Bare wafer Load Port*2

设备附加能力

Coating功能    二流体清洗

通讯方式

SECS/GEM


 

■ 功能:

      设备同时具备键合晶圆解键合之前的edge trim工艺。


■ 加工效果示例图

       



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